Hafnium tetrachloride | HFCL4 Poda | CAS 13499-05-3 | bei ya kiwanda

Maelezo mafupi:

Hafnium tetrachloride ina matumizi muhimu kama mtangulizi wa oksidi ya hafnium, kichocheo cha muundo wa kikaboni, matumizi ya nyuklia, na uwasilishaji wa filamu nyembamba, ikionyesha nguvu zake na umuhimu katika nyanja mbali mbali za kiteknolojia.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Tuma barua pepe kwetu

Maelezo ya bidhaa

Lebo za bidhaa

Maelezo ya bidhaa

Utangulizi mfupi

Jina la bidhaa: Hafnium tetrachloride
CAS No.: 13499-05-3
Mfumo wa kiwanja: HFCL4
Uzito wa Masi: 320.3
Kuonekana: Poda nyeupe

Uainishaji

Bidhaa	Uainishaji
Kuonekana	Poda nyeupe
HFCL4+ZRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Maombi

Hafnium dioksidi mtangulizi: Hafnium tetrachloride hutumiwa kimsingi kama mtangulizi kutengeneza hafnium dioksidi (HFO2), nyenzo iliyo na mali bora ya dielectric. HFO2 inatumika sana katika matumizi ya dielectric ya juu ya K kwa transistors na capacitors katika tasnia ya semiconductor. HFCL4 ni muhimu katika utengenezaji wa vifaa vya elektroniki vya hali ya juu kwa sababu ya uwezo wake wa kuunda filamu nyembamba za dioksidi ya hafnium.
Kichocheo cha Kikaboni: Hafnium tetrachloride inaweza kutumika kama kichocheo cha athari tofauti za awali za kikaboni, haswa upolimishaji wa olefin. Mali yake ya asidi ya Lewis husaidia kuunda waingiliano wa kazi, na hivyo kuboresha ufanisi wa athari za kemikali. Maombi haya ni muhimu katika utengenezaji wa polima na misombo mingine ya kikaboni katika tasnia ya kemikali.
Maombi ya nyuklia: Kwa sababu ya sehemu yake ya juu ya kunyonya ya neutron, hafnium tetrachloride hutumiwa sana katika matumizi ya nyuklia, haswa katika viboko vya kudhibiti athari za nyuklia. Hafnium inaweza kuchukua vizuri neutrons, kwa hivyo ni nyenzo inayofaa kwa kudhibiti mchakato wa fission, ambayo husaidia kuboresha usalama na ufanisi wa uzalishaji wa nguvu ya nyuklia.
Maonyesho nyembamba ya filamu: Hafnium tetrachloride hutumiwa katika michakato ya kemikali ya mvuke (CVD) kuunda filamu nyembamba za vifaa vya msingi wa hafnium. Filamu hizi ni muhimu katika matumizi anuwai, pamoja na microelectronics, macho, na mipako ya kinga. Uwezo wa kuweka sare, filamu zenye ubora wa juu hufanya HFCL4 kuwa ya maana katika michakato ya hali ya juu ya utengenezaji.