Hafnium tetrakloridi | HfCl4 poda | CAS 13499-05-3 | bei ya kiwanda

Maelezo Fupi:

Tetrakloridi ya hafnium ina matumizi muhimu kama kitangulizi cha oksidi ya hafnium, kichocheo cha usanisi wa kikaboni, matumizi ya nyuklia, na uwekaji wa filamu nyembamba, inayoangazia ubadilikaji na umuhimu wake katika nyanja mbalimbali za kiteknolojia.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Tutumie barua pepe

Maelezo ya Bidhaa

Lebo za Bidhaa

Maelezo ya Bidhaa

Utangulizi mfupi

Jina la Bidhaa: Hafnium tetrakloridi
Nambari ya CAS: 13499-05-3
Mfumo wa Kiwanja: HfCl4
Uzito wa Masi: 320.3
Muonekano: Poda nyeupe

Vipimo

Kipengee	Vipimo
Muonekano	Poda Nyeupe
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Maombi

Mtangulizi wa Dioksidi ya Hafnium: Tetrakloridi ya hafnium hutumiwa hasa kama kitangulizi cha kutokeza dioksidi hafnium (HfO2), nyenzo yenye sifa bora za dielectri. HfO2 hutumiwa sana katika matumizi ya juu-k ya dielectric kwa transistors na capacitors katika sekta ya semiconductor. HfCl4 ni muhimu katika utengenezaji wa vifaa vya kisasa vya kielektroniki kutokana na uwezo wake wa kuunda filamu nyembamba za hafnium dioxide.
Kichocheo cha awali cha kikaboni: Tetrakloridi ya hafnium inaweza kutumika kama kichocheo cha miitikio mbalimbali ya awali ya kikaboni, hasa upolimishaji wa olefin. Sifa zake za asidi ya Lewis husaidia kuunda viunga vilivyo hai, na hivyo kuboresha ufanisi wa athari za kemikali. Programu hii ni muhimu katika utengenezaji wa polima na misombo mingine ya kikaboni katika tasnia ya kemikali.
Utumiaji wa Nyuklia: Kutokana na sehemu yake ya msalaba ya kunyonya kwa nutroni, tetrakloridi ya hafnium hutumiwa sana katika utumizi wa nyuklia, hasa katika vijiti vya kudhibiti vinu vya nyuklia. Hafnium inaweza kunyonya nyutroni kwa ufanisi, kwa hiyo ni nyenzo inayofaa kwa ajili ya kudhibiti mchakato wa mgawanyiko, ambayo husaidia kuboresha usalama na ufanisi wa uzalishaji wa nishati ya nyuklia.
Uwekaji Filamu Nyembamba: Tetrakloridi ya Hafnium hutumiwa katika michakato ya uwekaji wa mvuke wa kemikali (CVD) kuunda filamu nyembamba za nyenzo zenye msingi wa hafnium. Filamu hizi ni muhimu katika aina mbalimbali za matumizi, ikiwa ni pamoja na microelectronics, optics, na mipako ya kinga. Uwezo wa kuweka filamu zinazofanana na za ubora wa juu hufanya HfCl4 kuwa ya thamani katika michakato ya juu ya utengenezaji.